作為光刻環(huán)節(jié)的重要耗材,，光刻膠的質(zhì)量和性能直接影響集成電路制造產(chǎn)線良率，是集成電路制造的核心材料之一,。按照曝光波長不同,，光刻膠可分為g線（436nm）,、i線（365nm）,、KrF（248nm）,，ArF（193nm）以及新興的EUV光刻膠5大類。其中,，ArF 光刻膠材料可用于90nm-14nm 甚至 7nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的集成電路制造工藝,，廣泛應(yīng)用于邏輯芯片、存儲芯片,、AI 芯片、5G 芯片和云計算芯片等高端芯片制造,。

       長期以來,，全球高端光刻膠（主要指KrF、ArF和EUV光刻膠）市場被以日本合成橡膠,、東京應(yīng)化,、信越化學(xué)、富士電子材料等為代表的國外技術(shù)壟斷,。隨著國內(nèi) IC 行業(yè)的快速發(fā)展以及先進(jìn)制程工藝的應(yīng)用,，光刻膠的用量持續(xù)提升。目前,，國內(nèi)從事高端光刻膠研發(fā)和生產(chǎn)的公司主要有南大光電,、上海新陽、晶瑞股份,、北京科華等,。

       近日，南大光電公告稱,，其控股子公司寧波南大光電自主研發(fā)的 ArF 光刻膠產(chǎn)品繼 2020 年 12 月在一家存儲芯片制造企業(yè)的 50nm 閃存平臺上通過認(rèn)證后,，近日又在邏輯芯片制造企業(yè) 55nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)的產(chǎn)品上取得了認(rèn)證突破。認(rèn)證評估結(jié)果顯示,，本次認(rèn)證系選擇客戶 55nm 技術(shù)節(jié)點(diǎn)邏輯芯片產(chǎn)品的工藝進(jìn)行驗(yàn)證,，寧波南大光電研發(fā)的 ArF 光刻膠的測試良率結(jié)果符合要求，具備 55nm 平臺后段金屬布線層的工藝要求,。

       據(jù)悉,，南大光電從事先進(jìn)前驅(qū)體材料,、電子特氣、光刻膠及配套材料三類半導(dǎo)體材料產(chǎn)品生產(chǎn),、研發(fā)和銷售,。2020年底，南大光電自主研發(fā)的ArF光刻膠產(chǎn)品通過下游客戶的使用認(rèn)證,，成為通過產(chǎn)品驗(yàn)證的第一只國產(chǎn)ArF光刻膠,，各項光學(xué)性能均達(dá)到商用膠水平。

       南大光電目前已完成兩條光刻膠生產(chǎn)線的建設(shè),，正在推動ArF光刻膠的客戶驗(yàn)證和量產(chǎn)工作,，相關(guān)配套材料產(chǎn)業(yè)化也在穩(wěn)步推進(jìn)。半個月前,，南大光電曾在投資者互動平臺表示,，公司已建成25噸光刻膠生產(chǎn)線，生產(chǎn)線已具備批量生產(chǎn)的條件,。

       公告同時提示,，ArF 光刻膠產(chǎn)品與本次認(rèn)證通過的客戶之間的產(chǎn)品銷售與服務(wù)協(xié)議尚在協(xié)商之中。ArF 光刻膠的復(fù)雜性決定了其在穩(wěn)定量產(chǎn)階段仍然存在工藝上的諸多風(fēng)險,，不僅需要技術(shù)攻關(guān),，還需要在應(yīng)用中進(jìn)行工藝的改進(jìn)、完善,，這些都會決定 ArF 光刻膠的量產(chǎn)規(guī)模和經(jīng)濟(jì)效益,。公司將根據(jù)后續(xù)進(jìn)展履行信息披露義務(wù)。